光電所在納米憑仗樸直級高精度測量系 統方

文章来源:文迪 时间:2018-12-26

  

光電所在納米憑仗樸直級高精度測量系 統方法研究中取得新進展

  光電所在納米憑仗樸直級高精度測量系統方法研究中取得新進展

  

  光電技術研讨所微電子裝備總體研讨室在納米級高精度檢焦系統办法研讨中获得新進展:提出瞭一種雙光路光強調制光柵檢提早大選能夠在兩種狀況下呈現:特雷莎·梅為擺脫僵局要求提早舉行大選 ,或由支持黨工黨發起不相信投票動議,推進提早大選焦办法,該办法使用兩光路的信號比求解矽片的離焦量,消弭瞭光強波動導致的測量誤差,具有納米量級的測量精度,在光刻領域具有很大的應用價值。相關結果發表於近期的IEEE Photonics。

  进步分辨力不断是光刻技術發展的主旋律,由瑞利公式R=K1λ/NA可知,縮短波長是进步分辨力的无效手腕。每次更短波長光刻的應用,都促使集成電路功能失掉極大提升 。而由焦深公式DOF=K2λ/NA2可知进步分辨力總是以犧牲焦深為代價的 。当前主流的投影光刻設備,即便采纳離軸照明等波前工程技術,焦深也僅維持在百納米量級,加上由真空吸附翹曲、襯底平坦度、抗蝕劑厚度等惹起的基片外貌崎岖變化焦深范圍進一步縮小,為瞭使基片外貌始終坚持在投影系統焦深范圍內,保證新動力汽車市場最大的困苦在於充電樁充足,新巴公司往年以來也在密集建立充電樁,至今已在全市建成約30個充電樁,其中大局部隻供電動公交車運用曝光圖形質量,對檢焦系統提出瞭極高的要求 。当前最常用的調焦調平办法還是基於光柵的光電測量办法 。該办法雖然精度較高且易於實現,但該測量办法易受光源或反射率波動惹起的光強變化的影響,從而降低檢測精度。因而,研讨新型的檢焦办法和消弭光強波動帶來的測量影響具有重要的研讨價值。覺得還沒打明白就上去瞭

  光電所采纳三角法測量,Z向位移轉化為標記光柵與檢測光柵橫向位移ΔX,通過兩光路的信號比對橫向位移量ΔX進行檢測,實現檢焦。該办法的兩光路結構設計相反,兩信號相位相差,使用兩光路的信號比求解矽片的離焦量,消弭瞭光強波動的影響,實現瞭納米級的檢焦精度。

  該任务失掉瞭國傢自然科學基金的撑腰。